화성 반도체 공장 디클로로실란 가스 화재 사고 (2019.08.11)

화성 반도체 공장 디클로로실란 가스 화재 사고

2019년 8월 11일 오후 7시 47분경 
경기 화성시 반도체 생산 공장 7층 천장 부근 배관에서 디클로로실란 가스 누출로 발화되어 약 1kg 누출되어 차단하고 가스를 환기시키고 직원 300여명을 대피 시켰다. 화재는 20분 만에 자체진압하였다. 
 

▶디클로로실란

SiH2Cl2 (디클로로실란)

CAS NO : 4109-96-0  인화성물질, 고압가스  폭발범위 : 4.1%~99%  인화점 : -28 ℃  자연발화온도 : 58 ℃

화학적으로 활성화된 기체이다. 화학적으로 활성 인 가스로 공기 중에 쉽게 가수 분해되고 자체 발화된다. 반도체와 태양전지 제조 공정에 사용되는 특수가스이다. 화관법 사고대비물질이다. 반도체 세척용으로 사용되는 무색 가스로 인화성이 큰 기체

 

▶사고사례

[중대화학사고] 6. 열교환기 세척작업 중 디클로로실란 누출로 인한 화재 

https://blog.naver.com/koshablog/220025117840

 

▶디클로로실란 취급 안전